日本OTSUKA大塚顯微分光膜厚計OPTM系列

日本OTSUKA大塚顯微分光膜厚計OPTM系列

日本OTSUKA大冢顯微分光膜厚計OPTM系列是一款集高精度、高速度與多功能性于一體的光學測量設備，廣泛應用于半導體、顯示面板、光學材料及薄膜制造等領域。

核心技術與原理?

OPTM系列基于顯微分光干涉法，通過測量薄膜表面與基板界面反射光的光程差產生的干涉現象，結合紫外至近紅外波段的光譜分析，精確計算膜厚、折射率（n）和消光系數（k）。其的反射對物鏡技術可物理消除透明基板背面反射光的干擾，即使面對玻璃等透明基板，仍能實現高精度測量。此外，設備支持多層膜解析（最多50層），并可分析具有光學異向性的材料（如SiC），確保測量結果的準確性。

性能參數與型號選擇?

OPTM系列提供三款型號：OPTM-A1（波長230-800nm，膜厚1nm-35μm）、OPTM-A2（波長360-1100nm，膜厚7nm-49μm）、OPTM-A3（波長900-1600nm，膜厚16nm-92μm）。設備采用CCD或InGaAs感光元件，搭配氘燈與鹵素燈雙光源，確保光譜覆蓋范圍廣。單點測量僅需1秒，光斑直徑最小可達3μm，支持微區測量，最小測量區域直徑僅10μm，適用于晶圓、FPD等復雜表面分析。

功能特點與用戶體驗?

OPTM系列具備非接觸、非破壞性測量優勢，量測頭可自由集成至客戶系統，滿足在線檢測需求。軟件界面直觀，提供初學者解析模式，簡化復雜建模流程，即使新手也能快速完成光學常數分析。設備標配自動XY平臺，支持多點坐標輸入與實時厚度分布圖生成，平臺尺寸達200mm×200mm，可檢測12寸晶圓。此外，設備通過NIST認證標準樣品校準，確保測量結果可追溯，精度達±0.2%，重復性0.1nm。

應用場景與行業價值?

在半導體領域，OPTM系列可精確測量SiO?、SiN等絕緣膜及光刻膠厚度，助力工藝控制；在顯示面板制造中，設備可分析ITO薄膜、彩色抗蝕劑（RGB）及OLED封裝材料厚度，確保顯示質量；在光學材料與薄膜行業，設備支持AR膜、HC膜、DLC涂層等材料的厚度與光學常數分析，為產品性能優化提供數據支撐。