日本OTSUKA大塚線掃描膜厚計®離線型

日本OTSUKA大塚線掃描膜厚計®離線型是一款專為離線檢測設計的高精度、高效率膜厚測量設備。該產品采用線掃描技術，能夠實現對薄膜樣品的快速、非接觸式測量，廣泛應用于半導體、顯示面板、光學材料及薄膜制造等領域。

?核心技術與特點?：

1. ?線掃描測量方式?：與傳統的點測量方式不同，該設備采用線掃描技術，能夠一次性測量整條線上的膜厚分布，大大提高了測量效率。

2. ?高精度與高再現性?：設備具備高精度、高再現性的測量能力，能夠準確捕捉薄膜厚度的微小變化，確保測量結果的可靠性。

3. ?非接觸式測量?：采用非接觸式測量方式，避免了對樣品的損傷，同時適用于各種形狀和材質的樣品。

4. ?寬幅樣品測量?：可對應寬幅樣品測量，滿足大尺寸薄膜的測量需求。

5. ?獨立測量頭設計?：設備配備獨立測量頭，支持定制化集成到各種測量系統中，滿足離線檢測需求。

?應用場景?：

• ?半導體行業?：用于測量晶圓上的薄膜厚度，如SiO?、SiN等絕緣膜，以及光刻膠的厚度控制。

• ?顯示面板行業?：適用于LCD、TFT、OLED等顯示器的薄膜測量，確保顯示質量。

• ?光學材料行業?：用于測量濾光片、抗反射膜等光學薄膜的厚度和光學常數。

• ?薄膜制造行業?：支持各種薄膜材料的厚度測量，如AR膜、HC膜、PET膜等。

?優勢與價值?：

該離線型線掃描膜厚計以其高效、精準的測量能力，為離線檢測提供了強有力的支持。其非接觸式測量方式保護了樣品，同時寬幅測量能力滿足了大規模生產的需求。此外，設備的獨立測量頭設計使得其能夠靈活集成到各種測量系統中，實現自動化檢測，提高了檢測效率