日本ULVAC愛發科高真空泵低溫泵C10

日本ULVAC愛發科高真空泵低溫泵C10是一款基于低溫冷凝與吸附原理的高性能真空設備，廣泛應用于半導體制造、光學鍍膜、真空釬焊、科研實驗等對潔凈度和真空度要求嚴苛的領域。其核心優勢體現在以下幾個方面：

一、無油清潔設計，極限真空度高?

C10低溫泵采用閉循環氦氣制冷系統，無需油類介質，避免了油蒸氣污染真空腔體的問題，特別適合對潔凈度敏感的工藝環境。通過兩級冷頭設計，第一級冷頭溫度維持在50-80K，可高效冷凝水蒸氣、二氧化碳等氣體；第二級冷頭溫度降至10-20K，進一步捕獲氮氣、氧氣等氣體；而極低溫區域（2-4K）則用于吸附氫氣、氦氣等難冷凝氣體。這種分級冷凝機制使其極限真空度可達10??至10?11Pa，滿足超高真空需求。

二、結構緊湊，運行穩定?

C10低溫泵采用模塊化設計，體積小巧、重量輕（約75-77kg），便于集成到各類真空系統中。其閉循環制冷系統無需外部冷卻水供應（部分型號支持風冷），簡化了安裝流程。同時，低溫泵運行振動極小，對精密儀器（如電子顯微鏡、半導體光刻機）的干擾可忽略不計，確保工藝穩定性。

三、高效抽氣與選擇性控制?

C10低溫泵對不同氣體具有差異化抽速：對水蒸氣等易冷凝氣體抽速極快，可顯著縮短真空腔體排氣時間；對惰性氣體（如氬氣）則通過低溫吸附實現高效捕獲。此外，通過調節冷頭溫度，可針對性優化對特定氣體的抽氣效率，滿足復雜工藝需求。

四、可再生性與低維護成本?

當吸附材料飽和后，C10低溫泵可通過加熱再生循環恢復抽氣能力，延長使用壽命。其核心部件（如冷頭、壓縮機）設計壽命長達24,000小時，且支持模塊化更換，降低長期維護成本。部分型號（如C10AT）采用風冷設計，進一步簡化了維護流程。

五、典型應用場景?

半導體制造?：用于光刻、蝕刻、沉積等工藝的真空環境構建。

光學鍍膜?：在真空鍍膜機中提供無油、高潔凈度的真空條件。

科研實驗?：支持高能物理、材料科學等領域的超高真空實驗需求。

工業加工?：適用于真空釬焊、真空熱處理等高溫工藝的排氣系統。

六、技術參數（以C10T為例）?

電源?：190-230V，50/60Hz，三相

功率?：1.5kW（50Hz）/1.7kW（60Hz）

冷卻方式?：水冷或風冷（依型號而定）

重量?：75-77kg

極限壓力?：10?11 Pa（需配合前級泵使用）

日本ULVAC愛發科C10低溫泵憑借其無油清潔、極限真空度高、運行穩定等特性，成為高精度真空系統的理想選擇，為半導體、科研、工業等領域提供了可靠的真空解決方案。

此產品是操作低溫泵所必需的。壓縮氦氣被送入冰箱，從冰箱返回的高溫氦氣被冷卻并循環。